XUV
XUV? 系列設(shè)備的真空測(cè)量室能夠通過 X 射線熒光分析 (RFA) 檢測(cè)原子序數(shù)從Na(11)開始的輕元素。由于空氣會(huì)吸收輕元素的熒光X射線,因此在大氣環(huán)境中通常無法使用該方法。因此,該儀器非常適合對(duì)要求嚴(yán)苛的鍍層厚度進(jìn)行測(cè)量和材料分析。
特性:
檢出限低、重復(fù)精度高,以及測(cè)量適用性廣,因此特別適用于研究和開發(fā)使用
配備真空測(cè)量室和高性能硅漂移探測(cè)器,能夠?qū)崿F(xiàn)精確測(cè)量,尤其是對(duì)輕元素的測(cè)試
通過可編程 X、Y 和 Z 軸進(jìn)行自動(dòng)測(cè)試
準(zhǔn)直器和濾波器可切換,因此可適用于各種材料和測(cè)試條件
應(yīng)用:
涂層厚度測(cè)量
原子序數(shù)從Na(11)開始的輕元素鍍層,可測(cè)量厚度低至納米級(jí)
鋁鍍層和硅鍍層
材料分析
測(cè)定寶石的真?zhèn)闻c原產(chǎn)地
常規(guī)材料分析和取證
高分辨率痕量分析